Fujifilm IX 150 NIF

Принцип работы

1. Просвечивание: Контролируемый объект помещается между источником рентгеновского излучения и пленкой Fujifilm IX 150. Рентгеновские лучи проходят сквозь объект.
2. Формирование изображения: Пленка чувствительна к рентгеновскому излучению. Более плотные участки материала (например, сплошной металл) поглощают больше излучения, в результате чего на пленке остается более светлая область. Напротив, менее плотные области (такие как трещины или пустоты) поглощают меньше излучения, создавая более темные участки на пленке.
3. Обработка: После экспозиции пленка подвергается химической обработке в темной комнате, чтобы проявить скрытое изображение и получить видимую радиографию.

Особенности

• Без прослоек (NIF): Пленка поставляется без бумажных прослоек, что уменьшает количество пыли и статического электричества, обеспечивая более чистое изображение.
• Высокая чувствительность: Пленка IX 150 обладает высокой чувствительностью, что позволяет значительно сократить время экспозиции, повышая производительность.
• Высокий контраст: Пленка обеспечивает высокий контраст, что облегчает выявление незначительных дефектов.
• Размер: Размер 30x40 см является стандартным и подходит для широкого спектра задач.

Применение

Пленка Fujifilm IX 150 NIF широко используется в различных отраслях для контроля качества и инспекций безопасности, включая:

• Сварка: Контроль сварных швов на наличие дефектов.
• Машиностроение: Проверка деталей и компонентов.
• Нефтегазовая отрасль: Проверка целостности трубопроводов, сосудов высокого давления и других критически важных компонентов.
• Литейное производство: Поиск пустот и других дефектов в металлических отливках.